การศึกษาผลของการเติมนาโนซิงค์ออกไซด์ต่อสมบัติฟิล์มซีเอ็มซีจากเซลลูโลสของเปลือกหน่อไม้

ชื่อนักเรียนผู้จัดทำโครงงานวิทยาศาสตร์

อัครพงศ์ อินทร์ขาว, จิรารัตน์ ปวงสุข, จารุวรรณ บรรเทิง

อาจารย์ที่ปรึกษาโครงงานวิทยาศาสตร์

อัมพร ทองที

โรงเรียนที่กำกับดูแลโครงงานวิทยาศาสตร์

โรงเรียนม่วงสามสิบอัมพวันวิทยา

ปีที่จัดทำโครงงานวิทยาศาสตร์

พ.ศ. 2563

บทคัดย่อโครงงานวิทยาศาสตร์

งานวิจัยนี้ได้ทำการสังเคราะห์คาร์บอกซิเมธิลเซลลูโลส (ซีเอ็มซี) จากเซลลูโลสของเปลือกเหลือทิ้งของหน่อไม้ ด้วยปฏิกิริยาคาร์บอกซิเมทิเลชันยืนยันโครงสร้างทางเคมีของคาร์บอกซิเมธิลเซลลูโลสเปรียบเทียบกับโครงสร้างของเซลลูโลส ด้วยเทคนิคอินฟราเรดสเปกโทรสโคปี และศึกษาโครงผลึกด้วยเทคนิคการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ (WAXD) เตรียมฟิล์มคาร์บอกซิเมธิลเซลลูโลสจากเปลือกหน่อไม้โดยวิธีการหล่อด้วยตัวทำ ละลาย (Solvent casting) ศึกษาผลของการเติมนาโนซิงค์ออกไซด์ที่มีความเข้มข้นร้อยละ 10, 20 และ 30โดยมวล ที่มีผลต่อความแข็ง สมบัติเชิงกล อัตราการซึมผ่านของไอน้ำ และโครงผลึกของแผ่นฟิล์มซีเอ็มซี ผลการทดสอบแสดงให้เห็นว่า เมื่อเติมนาโนซิงค์ออกไซด์ที่ความเข้มข้นร้อยละ 30 โดยมวล ระดับค่าความแข็งของแผ่นฟิล์มซีเอ็มซีจากเปลือกหน่อไม้มีค่าสูงที่สุดคือระดับ 3H ค่าร้อยละการยืดตัว ณ จุดขาดมีค่าสูงสุดเท่ากับร้อยละ 49 แต่ค่าแรงเค้นสูงสุด ค่ามอดูลัสของยัง และค่าแรงเค้น ณ จุดขาด มีค่าต่ำอัตราการซึมผ่านของไอน้ำ เท่ากับ 320 + 4.90 กรัมต่อวันต่อตารางเมตร นอกจากนั้นยังพบว่า การเติมนาโนซิงค์ออกไซด์ส่งผลให้ฟิล์มมีความเป็นผลึกน้อยลงอย่างมีนัยสำคัญ