การศึกษาเปรียบเทียบความหนาของฟิล์มบางไททาเนียมไนไตรด์ (TiNx) ที่ทำการเคลือบโดยวิธี ดี.ซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง ระหว่างอุณหภูมิ 30° ถึง 180 °C บนแผ่นสไลด์และใบมีดกลึง

ชื่อผู้จัดทำโครงงานวิทยาศาสตร์
  • ยวนหลี โถนารัตน์

อาจารย์ที่ปรึกษาโครงงานวิทยาศาสตร์

ไม่มี

สถาบันการศึกษาที่กำกับดูแลโครงงานวิทยาศาสตร์

ภาควิชาฟิสิกส์ คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยอุบลราชธานี

ระดับการศึกษา

โครงงานในระดับการศึกษาปริญญาโทขึ้นไป

หมวดวิชา

โครงงานในสาขาวิชาฟิสิกส์

วันที่จัดทำโครงงานวิทยาศาสตร์

01 มกราคม 2541

บทคัดย่อโครงงานวิทยาศาสตร์

โครงการพิเศษนี้ ศึกษาความหนาของฟิล์มบางไททาเนียมไนไตรด์ (TiNx) ที่เคลือบโดยวิธี ดี.ซี.แมกนีตรอน สปัตเตอริง บนแผ่นกระจกสไลด์และใบมีดกลึงเป็น substrates ก่อนเคลือบได้ทำการให้ความร้อนกับ substrates โดยอุณหภูมิที่ให้อยู่ระหว่าง 30° ถึง 180 °C และหาความหนาของฟิล์มไททาเนียมไนไตรด์ โดยใช้เครื่อง Scanning Electron Microscope (SEM) ผลที่ได้คือ เมื่อความร้อนที่ให้กับ substrates มีค่าเพิ่มขึ้น สีของฟิล์มไททาเนียมไนไตรด์เปลี่ยนจากสีทองเป็นสีเหลืองอมน้ำตาล ความหนาของฟิล์มไททาเนียมไนไตรด์บนแผ่นกระจกสไลด์ลดลงจาก 11.40 μm ถึง 1.30 μm และบนใบมีดกลึงลดลงจาก 292.19 μm ถึง 52.08 μm

In this special project, titanium nitride thin films were deposited by D.C. magnetron sputtering with slide glass and blade substrates: the samples should be heated between temperatures 30° to 180 °C before deposition. The thickness of TiNx films were determined by Scanning Electron Microscope (SEM). Results obtain a color range from gold to yellow brown when the temperatures increased. The TiNx thickness were decreased from 11.40 μm to 1.30 μm on slide glass and 292.19 μm to 52.08 μm on blade.