อิทธิพลของระยะห่างระหว่างตัวให้ความร้อนถึงวัสดุรองรับ ต่อคุณสมบัติของฟิล์มทองแดง ที่สร้างด้วยวิธีการระเหยสาร

ชื่อผู้จัดทำโครงงานวิทยาศาสตร์
  • ปองคุณ มณีศรี

อาจารย์ที่ปรึกษาโครงงานวิทยาศาสตร์
  • ประเสริฐ ไกรสิงห์เดชา

สถาบันการศึกษาที่กำกับดูแลโครงงานวิทยาศาสตร์

ภาควิชาฟิสิกส์ คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยศิลปากร

ระดับการศึกษา

โครงงานในระดับการศึกษาปริญญาโทขึ้นไป

หมวดวิชา

โครงงานในสาขาวิชาฟิสิกส์

วันที่จัดทำโครงงานวิทยาศาสตร์

01 มกราคม 2541

บทคัดย่อโครงงานวิทยาศาสตร์

การวิจัยนี้เป็นการศึกษาวิธีการระเหยสารในระบบสุญญากาศในการเคลือบฟิล์มบางของทองแดงและอิทธิพลของระยะห่างระหว่างตัวให้ความร้อนถึงวัสดุรองรับ ด้วยเครื่องเคลือบฟิล์มบาง Veeco VE 300 จากการทดลองเคลือบทองแดงบนแผ่นแก้วสไลด์ พบว่าระยะห่างระหว่างตัวให้ความร้อนถึงวัสดุรองรับ มีผลต่อสมบัติของฟิล์มบาง

This research is to study the evaporation technique of Cu thin film and also the influence of source to substrate distance on the properties of thin films by using Veeco VE 300 evaporator. Cu films were successfully grown on glass substrates. The result shows that the source to substrate distance has an affect on the properties of the film.